| Record ID | marc_loc_2016/BooksAll.2016.part10.utf8:154537159:998 |
| Source | Library of Congress |
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040 $aDLC$cNNC-L$dDLC
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043 $ae-gw---
050 00 $aLAW
245 00 $aPatentgesetz und Gebrauchsmustergesetz;$bsystematischer kommentar.$c[Begründet von Eduard Reimer]
250 $a3., erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski [et al.]
260 $aKöln,$bC. Heymann,$c1968.
300 $axxx, 2505 p.$c24 cm.
500 $aFirst-2d ed. entered under Germany (Federal Republic, 1949- ) Laws, statutes, etc.
504 $aBibliography : p. [xiii]-xix.
650 0 $aPatent laws and legislation$zGermany (West)
650 0 $aModels (Patents)$zGermany (West)
700 1 $aNastelski, Karl.
700 1 $aReimer, Eduard.
710 12 $aGermany (West)$tPatentgesetz.
710 12 $aGermany (West)$tGebrauchsmustergesetz.